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 JYSC-1000离子溅射仪

此款JYSC-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便。采用磁控冷态溅射,基本不升温,最大限度保护样品。

主要特点:

²  显示操作面为30°斜面,充分考虑操作的便捷和视觉体验,方便观察操作;

²  真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用;

²  微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识;

²  真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用;

²  控制电路为控制板,工作稳定可靠;

²  显示控制操作部分布局合理,位于同侧,使用方便;

²  磁控冷态溅射,基本不升温,最大限度保护样品;

技术参数:

1. 样品室空间:直径120mm×高110mm 
2. Au靶为标配,靶材尺寸:φ50mm×0.1mm
3. 独立真空控制电路设计,实现真空度和溅射电流,安全互锁,可调最大电流40mA;
4. 侵入式磁控低温离子源,可快速更换靶材,环绕暗区护罩;
5. 使用独立计时控制器,精准计时,可调设置范围:1-500秒,连续可调
6. 自动真空泄气功能,自动排气,可通过数字定时器进行控制
7. 进口真空泵,抽速8.5m3/h,噪声不大于48dB,可置于抗震台上,全金属集成耦合系统
8. 微型真空气阀:高精度微量流量阀,精度±0.1Pa

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