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 直流离子源

直流离子源


英国牛津应用研究公司



 
应用

应用:用于离子辅助沉积;离子束溅射沉积;离子束剥离与刻蚀 和样片表面修饰

 
技术指标

*型号:DC25; DC150

*束流能量:0-1 Kev

*高束流(40mA for DC25 and 300mA for DC150)

 
特点

*高束流均匀性

*操作程式简单

*牢固的源体结构和极低维护需要

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